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化学气相沉积

化学气相沉积

430
规格/型号:暂无
品牌:欧特
应用领域:冶金
产地:辽宁 - 沈阳
厂家/供应商:沈阳欧特真空科技有限公司
咨询电话::13998100263(请说明信息源自“中冶有色网”)
更新时间:2025-02-17
级别:待认证

化学气相沉积说明介绍

化学气相沉积CVD

化学气相沉积CVD


化学气相沉积(CVD)是一种在冶金和材料工程中广泛应用的技术,它通过在高温下将气态物质转化为固态薄膜,用于制造各种高性能材料。CVD技术在冶金行业中主要用于制备高纯度、高性能的金属和陶瓷涂层,这些涂层可以显著提高材料的耐磨性、耐腐蚀性和高温稳定性。

CVD设备主要由高真空获得与测量系统、反应石英管、管式电阻炉、气路系统及电气控制系统等五部分组成。高真空机组采用复合分子泵和机械泵组成,确保了极限真空度达到≤8.0×10^-5Pa,漏率≤10^-7Pa·L/s,为CVD过程提供了理想的高真空环境。管式电阻炉上开盖结构设计,方便装卸石英管,提高了操作的便捷性。

一、设备主要功能及组成

1.设备主要由高真空获得与测量系统、反应石英管、管式电阻炉、气路系统及电气控制系统等五部分组成。

2.高真空机组采用复合分子泵和机械泵组成。

3.管式电阻炉上开盖结构,方便装卸石英管。

4.多种工艺气体可选,气路系统定制。

5.电气控制系统具有多种报警功能,能及时提示故障情况,保障设备安全运行。

二、主要技术参数

1.石英炉管尺寸:Ø30×700(可定制)

2.极限真空度:≤8.0×10-5Pa

3.漏率:≤10-7Pa·L/s

4.最高加热温度:1100℃(可定制)

5.气路系统:定制(采用高精度MFC质量流量控制器)

6.供电电源:380V50Hz(三相五线制)

7.进水排管径:DN25

8.工作水压:0.2Mpa
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