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化学气相沉积

448

规格/型号：暂无

品牌：欧特

应用领域：冶金

产地：辽宁 - 沈阳

厂家/供应商：沈阳欧特真空科技有限公司

咨询电话:：13998100263（请说明信息源自“中冶有色网”）

更新时间：2025-02-17

级别：待认证

化学气相沉积说明介绍

化学气相沉积CVD

化学气相沉积（CVD）是一种在冶金和材料工程中广泛应用的技术，它通过在高温下将气态物质转化为固态薄膜，用于制造各种高性能材料。CVD技术在冶金行业中主要用于制备高纯度、高性能的金属和陶瓷涂层，这些涂层可以显著提高材料的耐磨性、耐腐蚀性和高温稳定性。

CVD设备主要由高真空获得与测量系统、反应石英管、管式电阻炉、气路系统及电气控制系统等五部分组成。高真空机组采用复合分子泵和机械泵组成，确保了极限真空度达到≤8.0×10^-5Pa，漏率≤10^-7Pa·L/s，为CVD过程提供了理想的高真空环境。管式电阻炉上开盖结构设计，方便装卸石英管，提高了操作的便捷性。

一、设备主要功能及组成

1.设备主要由高真空获得与测量系统、反应石英管、管式电阻炉、气路系统及电气控制系统等五部分组成。

2.高真空机组采用复合分子泵和机械泵组成。

3.管式电阻炉上开盖结构，方便装卸石英管。

4.多种工艺气体可选，气路系统定制。

5.电气控制系统具有多种报警功能，能及时提示故障情况，保障设备安全运行。

二、主要技术参数

1．石英炉管尺寸：Ø30×700（可定制）

2．极限真空度：≤8.0×10-5Pa

3．漏率：≤10-7Pa·L/s

4．最高加热温度：1100℃（可定制）

5．气路系统：定制（采用高精度MFC质量流量控制器）