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高真空电子束热蒸发系统

高真空电子束热蒸发系统

234
规格/型号：暂无
品牌：欧特
应用领域：冶金
产地：辽宁 - 沈阳
厂家/供应商：沈阳欧特真空科技有限公司
咨询电话:：13998100263（请说明信息源自“中冶有色技术网”）
更新时间：2025-02-17
级别：待认证

高真空电子束热蒸发系统说明介绍

高真空电子束热蒸发系统

高真空电子束热蒸发系统 E-Beam


高真空电子束热蒸发系统（E-Beam）是冶金和材料科学领域中一种精密的真空镀膜设备。该系统利用电子束蒸发源技术，能够实现高效率和高精度的材料蒸发与沉积，适用于制备各种金属、合金以及化合物薄膜。在冶金行业中，这种系统特别适用于高性能材料的制备，如高温合金、磁性材料、光学涂层和电子材料等。

一、 设备主要功能及组成

1. 设备主要由高真空获得与测量系统、样品台或工件转架系统、电子束蒸发源系统及电气控制系统等四部分组成。

2. 高真空机组采用复合分子泵和机械泵组成。

3. 样品台或工件转架系统可根据工艺需要灵活定制所需功能。

4. 电子束蒸发源系统采用E型电子枪，270°束偏角，具有XY扫描功能，能实现坩埚内材料均匀熔炼。

5. 标配膜厚控制仪，进行在线测量和监控。

6. 电气控制系统具有多种报警功能，能及时提示故障情况，保障设备安全运行。

二、 主要技术参数

1． 真空室尺寸：EB500、EB600（定制）

2． 极限真空度：≤6.7×10-5Pa

3． 漏率：≤10-7 Pa•L/s

4． 电子枪电源功率：6Kw

5． 电子枪高压：6KV / 8KV可转换

6． 最大电子束流：750mA

7． 坩埚容积：20ml（可定制）

8． 样品台：可在线升降、旋转、衬底加热

9． 工件转架：行星式工件架，公转自转，增强镀膜均匀性，可加热

10． 可选配工艺系统：手套箱工作站、样品预处理室、自动样品库等

11． 供电电源：380V 50Hz（三相五线制）

12． 进水排管径：DN25

13． 工作水压：0.2Mpa

 
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