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高真空电子束热蒸发系统

高真空电子束热蒸发系统

浏览量 863
规格/型号:暂无
品牌:欧特
应用领域:冶金
产地:辽宁 - 沈阳
厂家/供应商:沈阳欧特真空科技有限公司
咨询电话::13998100263(请说明信息源自“北方有色网”)
更新时间:2025-02-17
级别:待认证

高真空电子束热蒸发系统说明介绍

高真空电子束热蒸发系统

高真空电子束热蒸发系统 E-Beam


高真空电子束热蒸发系统(E-Beam)是冶金和材料科学领域中一种精密的真空镀膜设备。该系统利用电子束蒸发源技术,能够实现高效率和高精度的材料蒸发与沉积,适用于制备各种金属、合金以及化合物薄膜。在冶金行业中,这种系统特别适用于高性能材料的制备,如高温合金、磁性材料、光学涂层和电子材料等。

一、 设备主要功能及组成

1. 设备主要由高真空获得与测量系统、样品台或工件转架系统、电子束蒸发源系统及电气控制系统等四部分组成。

2. 高真空机组采用复合分子泵和机械泵组成。

3. 样品台或工件转架系统可根据工艺需要灵活定制所需功能。

4. 电子束蒸发源系统采用E型电子枪,270°束偏角,具有XY扫描功能,能实现坩埚内材料均匀熔炼。

5. 标配膜厚控制仪,进行在线测量和监控。

6. 电气控制系统具有多种报警功能,能及时提示故障情况,保障设备安全运行。

二、 主要技术参数

1. 真空室尺寸:EB500、EB600(定制)

2. 极限真空度:≤6.7×10-5Pa

3. 漏率:≤10-7 Pa•L/s

4. 电子枪电源功率:6Kw

5. 电子枪高压:6KV / 8KV可转换

6. 最大电子束流:750mA

7. 坩埚容积:20ml(可定制)

8. 样品台:可在线升降、旋转、衬底加热

9. 工件转架:行星式工件架,公转自转,增强镀膜均匀性,可加热

10. 可选配工艺系统:手套箱工作站、样品预处理室、自动样品库等

11. 供电电源:380V 50Hz(三相五线制)

12. 进水排管径:DN25

13. 工作水压:0.2Mpa

 
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