一种产生矩阵以将化学机械抛光系统的多个可控制参数与抛光速率分布相关的方法包括抛光测试基板。使用将第一参数设置为第一值的基线参数值,来针对第一时间段抛光测试基板,并且使用将第一参数设置为修改的第二值的第一修改参数值,来针对第二时间段抛光测试基板。在抛光期间监控测试基板的厚度,并且针对第一时间段决定基线抛光速率分布,并且针对第二时间段决定第一修改抛光速率分布。基于基线参数值、第一修改参数、基线抛光速率分布和第一修改抛光速率分布,来计算矩阵。
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