权利要求书： 1.一种扫描电子显微镜，所述扫描电子显微镜包括：电子枪，所述电子枪被配置为产生输入电子束并且将所述输入电子束照射到晶片上；偏转器，所述偏转器位于所述电子枪和所述晶片之间的所述输入电子束的路径上并且被配置为使所述输入电子束的路径偏转；物镜，所述物镜位于所述偏转器和所述晶片之间的所述输入电子束的路径上并且被配置为将所述输入电子束聚焦在所述晶片上；第一检测器，所述第一检测器被配置为检测基于所述输入电子束照射在所述晶片上而从所述晶片发射的发射电子的第一部分，并且基于所述发射电子的所述第一部分生成第一图像；第二检测器，所述第二检测器被配置为检测所述发射电子的第二部分并且基于所述发射电子的所述第二部分生成第二图像；第一能量滤波器，所述第一能量滤波器被配置为阻挡所述发射电子当中的能量小于第一能量的电子被所述第一检测器检测到；第二能量滤波器，所述第二能量滤波器被配置为阻挡所述发射电子当中的能量小于第二能量的电子被所述第二检测器检测到；以及处理器，所述处理器被配置为基于所述发射电子中能量介于所述第一能量与所述第二能量之间的第三部分、并通过所述第一图像和所述第二图像来生成所述晶片的图像。2.根据权利要求1所述的扫描电子显微镜，其中，所述第二能量滤波器与所述输入电子束的路径间隔开。3.根据权利要求2所述的扫描电子显微镜，其中，所述第一能量滤波器与所述输入电子束的路径间隔开。4.根据权利要求2所述的扫描电子显微镜，其中，所述第一能量滤波器位于所述晶片和所述物镜之间的所述输入电子束的路径上。5.根据权利要求4所述的扫描电子显微镜，其中，所述第一能量滤波器被配置为中和所述晶片。6.根据权利要求1所述的扫描电子显微镜，其中，所述处理器被进一步配置为对所述第一图像和所述第二图像执行差分运算以生成差分图像。7.根据权利要求1所述的扫描电子显微镜，其中，所述第一能量小于所述第二能量。8.根据权利要求1所述的扫描电子显微镜，其中，所述第一能量滤波器和所述第二能量滤波器均被配置为阻挡所述发射电子当中的二次电子。9.根据权利要求1所述的扫描电子显微镜，其中，所述第一能量滤波器被配置为使俄歇电子通过，并且所述第二能量滤波器被配置为阻挡俄歇电子。10.根据权利要求1所述的扫描电子显微镜，其中，所述第一能量和所述第二能量均大于50e。11.一种扫
声明：
“扫描电子显微镜、检查晶片的方法及半导体器件制造方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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编辑：管理员
来源：三星电子株式会社
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2025年06月06日 ~ 08日 
