权利要求书: 1.一种可调节胶体磨,包括矩形的底座(1)、驱动电机(2)、研磨装置,所述驱动电机外侧罩设有电机罩(201),其特征在于:所述底座(1)的拐角处设有转动调节螺杆(3),所述驱动电机(2)、研磨装置均固定在所述底座(1)上,所述驱动电机(2)采用带轮(18)、皮带(19)驱动所述研磨装置,所述驱动电机(2)采用固定板(5)连接在所述底座(1)的上表面,所述固定板(5)位于所述电机罩(201)下端的内部,在所述底座(1)的下表面设有固定条(6),所述固定板(5)、固定条(6)与所述底座(1)之间均可动连接,所述底座(1)上设有调节孔(101),所述调节孔(101)内设有连接螺栓(7),所述固定板(5)、固定条(6)由所述连接螺栓(7)固定连接,所述底座(1)的侧壁上设有调节螺杆(8),所述调节螺杆(8)与所述固定板(5)螺纹连接。
2.根据权利要求1所述的一种可调节胶体磨,其特征在于:所述研磨装置包括支撑座(9)、转轴(10)、壳体(11)、静磨头(12)、动磨头(13)、调节螺母(14)、静磨盘固定板(15)、密封盖(16)、进料斗(17),所述转轴(10)铰接设置在所述支撑座(9)的中心部位,且所述转轴(10)的上、下两端均贯穿所述支撑座(9),所述转轴(10)的下端由所述带轮(18)、皮带(19)驱动,所述动磨头(13)固定在所述转轴(10)的上端,所述静磨头(12)罩设在所述动磨头(13)的外侧,所述壳体(11)罩设在所述静磨头(12)的外侧并与所述支撑座(9)固定连接,所述调节螺母(14)与所述壳体(11)上端螺纹连接,所述静磨盘固定板(15)位于所述调节螺母(14)和所述壳体(11)之间并与所述静磨头(12)固定连接,所述密封盖(16)与所述调节螺母(14)铰接设置并对所述壳体(11)内部的空腔(20)密封,所述进料斗(17)的下端贯穿所述密封盖(16)并与所述壳体(11)内部的所述空腔(20)连通。
3.根据权利要求2所述的一种可调节胶体磨,其特征在于:所述调节螺母(14)与所述密封盖(16)边缘部位的连接处设有环形的第一滑槽(141),所述第一滑槽(141)内设有若干第一滚珠(21),所述静磨盘固定板(15)上设有环形的第二滑槽(151),所述第二滑槽(151)内设有若干第二滚珠(22)。
4.根据权利要求2所述的一种可调节胶体磨,其特征在于:所述转轴(10)的上、下两端与所述支撑座(9)之间均设有轴承(23),位于转轴(10)上端的轴承(23)与所述空腔(20)之间设有轴承盖(24)和防水板(25),所述轴承盖(24)固定在所述支撑座(9)上,所述轴承盖(24)位于所述转轴(10)上端的轴承(23)与所述防水板(25)之间,所述防水板(25)固定在所述支撑座(9)上。
5.根据权利要求2所述的一种可调节胶体磨,其特征在于:所述动磨头(13)的外表面设有宽料槽(131)、中料槽(132)、细料槽(133),所述宽料槽(131)、细料槽(133)由所述中料槽(132)连通设置。
6.根据权利要求2所述的一种可调节胶体磨,其特征在于:所述壳体(11)上设有出料口(26),所述出料口(26)与所述空腔(20)连通。
说明书: 一种可调节胶体磨技术领域[0001] 本实用新型涉及胶体磨机技术领域,具体为一种可调节胶。背景技术[0002] 随着社会的进步,工业技术水平的不断提高,对生产设备的安全性和便捷性要求也越来越高,现有设备中的胶体磨是通过磨盘碾磨将物料变细,并且将碾磨后的物料从胶
体磨中排出的设备。
[0003] 目前,现有的胶体磨大多采用带轮、皮带驱动,时间长久皮带会产生松动,影响研磨效果,而且,胶体磨上动、静磨头外侧的壳体密封性不够,研磨时容易产生泄露。
实用新型内容
[0004] 针对背景技术中指出的问题,本实用新型提出一种可调节胶,具有可调节、密封性好的特点。
[0005] 本实用新型的技术方案是这样实现的:[0006] 一种可调节胶体磨,包括矩形的底座、驱动电机、研磨装置,所述驱动电机外侧罩设有电机罩,其特征在于:所述底座的拐角处设有转动调节螺杆所述驱动电机、研磨装置均
固定在所述底座上,所述驱动电机采用皮带、带轮驱动所述研磨装置,所述驱动电机采用固
定板连接在所述底座的上表面,所述固定板位于所述电机罩下端的内部,所述底座的下表
面设有固定条,所述固定板、固定条与所述底座之间均可动连接,所述底座上设有调节孔,
所述调节孔内设有连接螺栓,所述固定板、固定条由所述连接螺栓固定连接,所述底座的侧
壁上设有调节螺杆,所述调节螺杆与所述固定板螺纹连接。
[0007] 本实用新型进一步设置为:所述研磨装置包括支撑座、转轴、壳体、静磨头、动磨头、调节螺母、静磨盘固定板、密封盖、进料斗,所述转轴铰接设置在所述支撑座的中心部
位,且所述转轴的上、下两端均贯穿所述支撑座,所述转轴的下端由所述带轮、皮带驱动,所
述动磨头固定在所述转轴的上端,所述静磨头罩设在所述动磨头的外侧,所述壳体罩设在
所述静磨头的外侧并与所述支撑座固定连接,所述调节螺母与所述壳体上端螺纹连接,所
述静磨盘固定板位于所述调节螺母和所述壳体之间并与所述静磨头固定连接,所述密封盖
与所述调节螺母铰接设置并对所述壳体内部的空腔密封所述进料斗的下端贯穿所述密封
盖并与所述壳体内部的所述空腔连通。
[0008] 本实用新型进一步设置为:所述调节螺母与所述密封盖边缘部位的连接处设有环形的第一滑槽,所述第一滑槽内设有若干第一滚珠,所述静磨盘固定板上设有环形的第二
滑槽,所述第二滑槽内设有若干第二滚珠。
[0009] 本实用新型进一步设置为:所述转轴的上、下两端与所述支撑座之间均设有轴承,位于转轴上端的轴承与所述空腔之间设有轴承盖和防水板,所述轴承盖固定在所述支撑座
上,所述轴承盖位于所述转轴上端的轴承与所述防水板之间,所述防水板固定在所述支撑
座上。
[0010] 本实用新型进一步设置为:所述动磨头的外表面设有宽料槽、中料槽、细料槽,所述宽料槽、细料槽由所述中料槽连通设置。
[0011] 本实用新型进一步设置为:所述壳体上设有出料口,所述出料口与所述空腔连通。[0012] 综上所述,本实用新型的有益效果为:[0013] (1)本实用新型所提供的一种可调节胶体磨,其上设有用于调节皮带松紧的调节机构,能够调节驱动电机与转轴之间的距离,从而保证该胶体磨工作的稳定性,其上底座上
设有可调节的转动调节螺杆能够吸收驱动电机产生的部分振动,使设备更加平稳运转;
[0014] (2)本实用新型所提供的一种可调节胶体磨,其上的调节螺母与密封盖边缘部位的连接处、静磨盘固定板与调节螺母之间均设有滚珠,便于调节螺母与密封盖、静磨盘固定
板之间转动,方便调节。
附图说明[0015] 为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅
是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前
提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0016] 图1为本实用新型的结构示意图;[0017] 图2为本实用新型研磨装置的剖视图;[0018] 图3为本实用新型底座的结构示意图;[0019] 图4为本实用新型A部结构的放大图;[0020] 图5为本实用新型B部结构的放大图;[0021] 图6为本实用新型动磨头的结构示意图。[0022] 附图标记:1、底座;101、调节孔;102、导向槽;2、驱动电机;3、转动调节螺杆;4、航空插座;5、固定板;501、调节板;6、固定条;7、连接螺栓;8、调节螺杆;9、支撑座;10、转轴;
11、壳体;12、静磨头;13、动磨头;131、宽料槽;132、中料槽;133、细料槽;14、调节螺母;
141、第一滑槽;15、静磨盘固定板;151、第二滑槽;16、密封盖;17、进料斗;18、带轮;19、皮
带;20、空腔;21、第一滚珠;22、第二滚珠;23、轴承;24、轴承盖;25、防水板;26、出料口;27、
叶轮。
具体实施方式[0023] 下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的
实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下
所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
[0024] 如下参考图1?6对本实用新型进行说明:[0025] 一种可调节胶体磨,包括矩形的底座1、驱动电机2、研磨装置,底座1的拐角处的下端设有转动调节螺杆3,底座1的拐角边棱处设有倒圆角,底座1采用高强度不锈钢冷压成
形,底座1上设有用于插接电源的航空插座4。
[0026] 驱动电机2、研磨装置均固定在底座1上,驱动电机2外侧罩设有电机罩201,驱动电机2采用固定板5连接在底座1的上表面,固定板5位于电机罩201下端的内侧,底座1的下
表面设有固定条6,固定板5、固定条6与底座1之间均可动连接,底座1上设有椭圆形的调节
孔101,调节孔101内设有连接螺栓7,调节孔101短边的直径大于连接螺栓7的直径。固定板
5、固定条6由连接螺栓7固定连接,底座1的侧壁上设有调节螺杆8,固定板5上设有向下延伸
设置的调节板501,调节螺杆8与调节板501螺纹连接,底座1上设有导向槽102,调节螺杆8调
节调节板501时,调节板501在导向槽102内移动。
[0027] 研磨装置包括支撑座9、转轴10、壳体11、静磨头12、动磨头13、调节螺母14、静磨盘固定板15、密封盖16、进料斗17,转轴10铰接设置在支撑座9的中心部位,且转轴10的上、下
两端均贯穿支撑座9,转轴10的下端由带轮18、皮带19驱动,动磨头13固定在转轴10的上
端,静磨头12罩设在动磨头13的外侧,壳体11罩设在静磨头12的外侧并与支撑座9固定连
接,调节螺母14与壳体11上端螺纹连接,静磨盘固定板15位于调节螺母14和壳体11之间并
与静磨头12固定连接,密封盖16与调节螺母14铰接设置并对壳体11内部的空腔20进行机械
密封,进料斗17的下端贯穿密封盖16并与壳体11内部的空腔20连通。
[0028] 动磨头13的外表面设有宽料槽131、中料槽132、细料槽133,宽料槽131、中料槽132、细料槽133与动磨头13的中轴线之间均呈倾斜设置,且宽料槽131、细料槽133与动磨头
13的中轴线之间的倾斜方向与。中料槽132与动磨头13的中轴线之间倾斜方向相反。宽料
槽131、细料槽133由中料槽132、连通设置,宽料槽131的宽度大于中料槽132的宽度,中料槽
132的宽度大于细料槽133的宽度,中料槽132所在部位沿宽料槽131指向细料槽133的方向
程直径逐渐增大设置。
[0029] 调节螺母14与密封盖16边缘部位的连接处设有环形的第一滑槽141,第一滑槽141内设有若干第一滚珠21,第一滚珠21与第一滑槽141滚动连接第一滚珠21的上端与密封盖
16的边缘部位滚动连接,静磨盘固定板15上设有环形的第二滑槽151,第二滑槽151内设有
若干第二滚珠22,调节螺母14与支撑座9的上端螺纹连接时,调节螺母14内侧的水平方向
上的侧面与第二滚珠22滚动连接。通过转动调节调节螺母14,来调节调节螺母14与支撑座9
之间的间隙,进而调节静磨盘固定板15在调节螺母14与支撑座9之间可移动的距离,静磨盘
固定板15位与静磨头12固定连接,当静磨盘固定板15在调节螺母14与支撑座9之间的间隙
内上下移动时,静磨头12在壳体11内上下移动,进而调节静磨头12与动磨头13之间研磨出
颗粒的粗细程度,当调节螺母14与支撑座9之间的间隙最小,此时静磨盘固定板15被调节
螺母14、支撑座9固定,静磨头12位于最低位位置,此时研磨的颗粒直径最小。
[0030] 转轴10的上、下两端与支撑座9之间均设有轴承23,位于转轴10上端的轴承23与壳空腔20之间设有轴承盖24和防水板25,轴承盖24固定在支撑座9上并位于转轴10上端的轴
承23与防水板25之间,防水板25固定在支撑座9上,轴承盖24、防水板25用于对空腔20的下
端密封。
[0031] 所述壳体11上设有出料口26,所述出料口26与所述空腔20连通。动磨头13下端设有与出料口26位置对应设置的叶轮27,转轴10转动时,叶轮27带动研磨后的物料进入出料
口26,并由出料口26排出。
[0032] 以上所述的仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新
型的保护范围之内。
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“可调节胶体磨” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
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