高真空晶体炉
用途概况:
高真空晶体炉采用感应加热、电阻加热方式,可用铱金、铂金、石墨、钼等坩埚。
主要用途和适用范围:
可以生长氧化物晶体(如YAG:Nd、Al2O3、TeO2、LiTaO3、LiNbO3等),是科研院所、企事业单位新晶体材料的提拉法、下降法、泡生法、温梯法生长性能研究和生产的优良可靠设备。
主要功能与特点:
1.高精度丝杠、高质量电机使得传动系统更加精确和稳定。
2.模块化电路设计,控制电路更加稳定、可靠、易于维护。
3.高精度重量传感器保证了出色的自动直径控制性能。
4.全电脑控制,晶体外形控制更出色、更少人工监测。
5.关键参数实时呈现,晶体生长过程一目了然。
6.紧急情况自动处理,为设备和坩埚提供一定的安全保障。
技术参数:
1.原理加热采用感应加热方式,坩埚在石英管内,封装在外壳内。分子泵外置。
2.石英桶80*90*400用于放置坩埚保温材料。
3.中频功率15KW,2.5kHz
4.真空5*10-3PA冷炉极限真空
5.慢速提拉0.1-10mm/h
6.快速提拉10-70mm/min
7.旋转速度0.1-50r/min
8.坩埚35*35,可加热至1600度材质Pt
9.下部密封与石英桶密封,循环水强制冷却。抽真空接口,充气口。
10.上部密封与石英桶密封,循环水强制冷却,与上提拉波纹管接口
11.旋转机构包括旋转电机,旋转密封磁流体
12.提拉机构旋转机构安装上提拉机构移动块上。提拉机构包括,步进电机,减速机,滚珠丝杠、导轨,立柱和立柱旋转机构。
13.HMI用于设定升降问程序,运行,停止、暂停,中频启停。升降控制包括,慢升,慢降,快升和快降及速度大小。(快升为手按住升或将,松开停止)旋转控制包括:正转,反转,停止,速度大小。
14.指示灯三色,红、黄、绿,用于故障报警。
15.为控制柜包括温度控制,运动控制电器等安装参数。