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报废光刻掩膜版的回收处理方法

784   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 08:28:35
本发明公开了一种报废光刻掩膜版的回收处理方法，包括：将报废光刻掩膜版表层的铬金属层用酸性腐蚀液腐蚀掉，得到膜版基底；用去离子水冲洗膜版基底表面；对膜版基底的双面表层进行衬底级的CMP化学抛光；将抛光后检验合格的膜版基底做镀铬前预清洗，先用酸洗，再用去离子水冲洗，然后用碱洗，再用去离子水冲洗，酸碱清洗重复多次；在膜版基底表面镀一定厚度的铬层，制作新的光刻掩膜版。通过对报废膜版基底的优化处理，从而使报废的膜版得到再次利用，不仅解决了行业资源的浪费，而且还变相的降低了生产成本。可以大大提高光刻版的反复利用次数，工艺简单，适合大规模批量生产。
声明：
“报废光刻掩膜版的回收处理方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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