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CVD机台的晶圆传送系统和晶圆传送方法

744   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 07:57:10
本发明提供了一种CVD机台的晶圆传送系统，包括：淀积腔体，用于收容晶圆以进行化学气相沉积；传送臂，用于将晶圆传送到淀积腔体；还包括：光信号发生器，安装在传送臂上，用于向晶圆发射光信号；光传感器，用于监测光信号发生器发出的光信号。与现有技术相比，本发明的有益效果是：通过设置光信号发生器和光传感器，检测晶圆和传送臂的相对位置，避免将不符合要求的晶圆送入淀积腔体。
声明：
“CVD机台的晶圆传送系统和晶圆传送方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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