本发明公开了一种低温低压制备氮化硼涂层的方法,用于解决现有技术中,在采用化学气相沉积方法时,所需制备温度较高的问题。以三氯化硼(BCl3)和氨气(NH3)为主要原料,在低温条件下进行化学气相沉积,再将所得样品进行高温热处理,经傅里叶红外和X射线衍射检测,制备出了渗透能力更强、厚度均匀可控、结晶度较高的氮化硼涂层。此方法可用于
复合材料氮化硼界面的制备和样品表面涂层的制备,此方法将氮化硼化学气相沉积的沉积温度由1300~1800℃,降到了300~800℃。该方法主要包括:低温化学气相沉积和高温热处理。
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