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等离子体刻蚀终点检测方法

989   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 07:08:36
本发明涉及一种等离子体刻蚀终点检测方法，包含以下步骤：先制备金属层上生长一层SiN并带有光刻胶窗口的样品，再将样品固定在离子刻蚀机的腔室内，然后往离子刻蚀机的腔室内通入反应气体CF4，接着打开离子刻蚀机腔室内的上下射频源，使气体离化并在腔室内磁场下运动，CF4气体的F离子与SiN介质层的Si离子形成Si‑F化学基团，最后利用Si‑F化学基团所发射波长的光强变化，进行刻蚀终点检测；本发明由于SiN介质层与金属层存在很大差别的光波强度，利用Si‑F化学基团所发射波长的光强变化，实现终点检测，不仅可以准确达到刻蚀形貌，提高元器件生产效率，还能提高等离子体刻蚀设备的寿命以及设备内的腔室氛围。
声明：
“等离子体刻蚀终点检测方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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标签：
化学分析
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