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化学机械抛光系统和抛光衬底的方法

650   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 06:57:46
本发明的实施例涉及化学机械抛光系统和抛光衬底的方法。公开了一种化学机械抛光的方法，包括：将浆料供应到抛光垫上；将晶圆压向所述抛光垫上，其中，第一压电层设置在压力单元和所述晶圆之间；检测所述第一压电层产生的第一电压；根据检测到的所述第一压电层产生的所述第一电压，使用所述压力单元，将所述晶圆压在所述抛光垫上；以及使用所述抛光垫抛光所述晶圆。
声明：
“化学机械抛光系统和抛光衬底的方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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