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化学研磨垫、其制造方法及半导体晶圆的化学机械研磨方法

1020   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 06:55:30
本发明提供一种化学机械研磨垫,其包括具有研磨面的研磨基体及熔合在该研磨基体上的透光性构件,且以平行于研磨面的面切断该透光性构件时的剖面形状为长径除以短径的值大于1的椭圆形。该研磨垫对于半导体晶圆的研磨面,可不降低研磨性能地透过终点检测用光。
声明：
“化学研磨垫、其制造方法及半导体晶圆的化学机械研磨方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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