一种设备,包括:第一基底(102);位于第一基底上的多个第一凸起元件(106),第一凸起元件被位于第一基底上的第一通道区域(118)相互隔开,每个第一凸起元件具有第一远端(132),第一远端形成了第一阵列(200);位于第一凸起元件上的疏水性分子(152);以及位于第一凸起元件上的主活性分子,其用于产生亲水性的反应产物。一种利用所述设备的方法。
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