本实用新型涉及半导体制造领域，公开了一种扫描电镜装置，包括：电子枪，设置在电子真空腔室内用于产生检测分析需要的电子；扫描电镜，设置在电子枪的电子出口处用于调整电子的活动轨迹；还包括样品台，用于放置需要进行检测分析的晶圆，扫描电镜包括第一目镜腔室和第二目镜腔室，第一目镜腔室和第二目镜腔室内分别设置有调节电压以使得穿过第一目镜腔室和第二目镜腔室的电子能够轰击到样品台上。本申请采用电子轰击晶圆表面，通过两次目镜调整精度，保证电子束能够精确轰击到晶圆表面，看清表面的结构。也可以接EDX系统进行元素分析。保证了晶圆的完整性，使得晶圆可以继续使用。

本实用新型提供一种半导体芯片的扫描电镜装置，包括：电子枪；聚焦组件，设置于电子枪的电子束的发射端；承载平台，位于聚焦组件聚焦处理后的电子束所在的直线路径上，承载平台用以承载晶圆，晶圆上布置多个芯片；检测探头组，包括多个检测探头，检测探头组位于承载平台的一侧，以收集芯片激发的电子信号；以及弧形基座，安装检测探头组，弧形基座的凹部开口朝向承载平台。本实用新型可提高半导体芯片的线宽测量精度。