石英坩埚脱模剂 技术参数
货号
|
平均粒径(nm)
|
纯度(%)
|
比表面积(m2/g)
|
体积密度g/cm3
|
振实密度g/cm3
|
形貌
|
颜色
|
YFT02-U08
|
800
|
>99.99
|
8
|
1.3
|
2.9
|
α相
|
灰白色
|
备注:根据用户要求可提供不同粒度的产品。详细资料请见产品文档。 应用方向 石英坩埚脱模剂 主要应用于
多晶硅和单晶熔炼过程中,石英坩埚脱模用。多晶硅和单晶硅生产时,在原料熔化、晶体生长过程中,硅熔体和坩埚长时间接触会产生黏滞性。由于两种材料的热膨胀系数不同,如果硅材料和坩埚壁结合紧密,在晶体冷却时很可能造成晶体硅或坩埚破裂。而硅熔体和坩埚的长时间接触还会造成陶瓷坩埚的腐蚀,使多晶硅中的氧浓度升高。为了解决这些问题,国外工艺上一般采用高纯氮化硅材料作为涂层附在坩埚的内壁,隔离硅熔体和坩埚的直接接触,不仅解决了黏滞问题,而且可以降低多晶硅中的氧、炭等杂质浓度。利用定向凝固技术生长的铸造多晶硅,多数情况下坩埚是消耗品,不能重复循环使用,即每炉多晶硅都需要消耗一只陶瓷坩埚。采用氮化硅涂层后可使石英陶瓷坩埚得到重复使用,大幅度降低生产成本我公司根据多晶硅和单晶硅生产工艺特点,开发销售了石英坩埚专用脱膜剂及相关喷涂工艺。高纯氮化硅脱模剂粒度在0.5-1.2微米之间,可以有效地解决在涂层高温固化过程 中的氧化问题,使多晶硅和单晶硅的纯度获得大幅度提高,其粉末的纯度可达99.99%以上,可用作
光伏工业中熔炼多晶硅铸锭的石英坩埚涂层材料。可有效防止坩埚内壁与熔融硅料粘接,方便脱模,同时起到阻隔层作用,保证硅锭纯度。与纳米氮化硅或其他类型脱模剂相比,具有优异的抗氧化性能,确保生产过程中碳、氧等杂质浓度获得有效控制。产品纯度高,粒度均匀,性能上完全可与国外同类产品相比较,目前已实现批量化生产。因此可以解决目前国内的石英坩埚涂层粉完全依赖日本UBE、德国Starck等进口,且有较大成本优势。