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工作原理
DSX2000采用光学变焦与电动控制技术，通过21X-7307X超宽放大倍率实现宏观至微观的无缝衔接。其核心的电动变焦头与电动物镜转盘支持一键切换物镜与倍率，配合7种观察模式（明场、暗场、MIX、偏光、偏斜、DIC、阴影浮雕），可实时优化成像条件。例如，阴影浮雕模式通过动态调整光源角度，无需后期处理即可实时捕捉超细微缺陷，显著提升检测效率。
应用范围
设备覆盖半导体、电子制造、材料科学等领域。在半导体行业，可精准检测晶圆表面划痕、芯片封装缺陷；在电子制造中，支持PCB板焊点高度测量与激光加工形貌分析；材料科学研究领域，可实现金属晶粒尺寸分析、非金属夹杂物评级及3D表面粗糙度测量。其大载物台设计可容纳200×100mm样品，兼容透明、反光、厚型等多种材质。
产品技术参数
分辨率：支持4K成像，通过像素位移技术可扩展至8K
放大倍率：21X-7307X（光学变焦）
载物台：行程150×100mm，支持±90°旋转与倾斜
照明系统：LED光源，寿命超20,000小时，色温恒定5700K
软件功能：集成PRECiV图像分析平台，支持2D/3D测量、AI辅助决策、一键全景拼接
产品特点
全电动智能化：电动变焦、物镜切换与载物台移动实现全流程自动化，减少人为操作误差。
AI深度赋能：Live AI功能通过5分钟神经网络训练，可实时标记图像关键特征，辅助专家快速决策。
高效工作流程：EZ模式支持自定义工作流，主管可限制操作员可用功能，降低培训成本；一键保存成像参数确保检测一致性。
模块化扩展：兼容32英寸4K显示器，支持网络集成与多设备协同分析，满足IT合规性要求。
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广西 - 桂林
2025年11月07日 ~ 09日
