膜厚测量仪
简要描述:Thetametrisis膜厚测量仪FR-pRo是一个模块化和可扩展平台的光学测量设备,用于表征厚度范围为1nm-1mm 的涂层。
膜厚测量仪是一种用于测量薄膜、涂层或其它薄层材料厚度的仪器。膜厚测量仪通常采用不同的工作原理和技术来实现准确的厚度测量,常见的膜厚测量仪包括:
1、X射线荧光测厚仪:利用X射线照射样品表面,通过测量荧光光谱来确定薄膜厚度。
2、声表面波测量仪:利用超声波在薄膜表面传播的特性来测量薄膜厚度。
3、光学干涉仪:利用光学干涉原理测量薄膜的厚度,常见的有白光干涉仪和激光干涉仪。
4、磁感应测厚仪:通过测量磁感应信号来确定薄膜或涂层的厚度。
膜厚测量仪在工业生产、材料研发、电子设备制造等领域广泛应用,可帮助用户准确测量和控制薄膜的厚度,确保产品质量和性能。使用膜厚测量仪时,需要根据实际情况选择适合的仪器和测量方法,并注意仪器的操作规范和安全注意事项。
Thetametrisis膜厚测量仪FR-pRo概述:
FR-pRo膜厚仪: 按需搭建的薄膜特性表征工具。
FR-pRo膜厚仪是一个模块化和可扩展平台的光学测量设备,用于表征厚度范围为1nm-1mm 的涂层。
FR-pRo膜厚仪是为客户量身定制的,并广泛应用于各种不同的应用。
比如:
吸收率/透射率/反射率测量,薄膜特性在温度和环境控制下甚至在液体环境下的表征等等…
Thetametrisis膜厚测量仪FR-pRo应用:
1、大学&研究实验室
2、半导体行业
3、高分子聚合物&阻抗表征
4、电介质特性表征
5、生物医学
6、硬涂层,阳极氧化,金属零件加工
7、光学镀膜
8、非金属薄膜等等…
FR-pRo膜厚仪可由用户按需选择装配模块,核 心部件包括光源,光谱仪(适用于 200nm-2500nm 内的任何光谱系统)和控制单元,电子通讯模块。
此外,还有各种各种配件,比如:
1.用于测量吸收率/透射率和化学浓度的薄膜/试管架;
2.用于表征涂层特性的薄膜厚度工具;
3.用于控制温度或液体环境下测量的加热装置或液体试剂盒;
4.漫反射和全反射积分球。
通过不同模块组合,蕞终的配置可以满足任何终端用户的需求。
Specificatins 规格:
工作原理:
白光反射光谱(WLRS)是测量垂直于样品表面的某一波段的入射光,在经多层或单层薄膜反射后,经界面干涉产生的反射光谱可确定单层或多层薄膜(透明,半透明或全反射衬底)的厚度及 N*K 光学常数。
* 规格如有更改,恕不另行通知; ** 厚度测量范围即代 表光谱范围,是基于在高反射衬底折射率为 1.5 的单层膜测量厚度。