VWF-25-21(2100度真空钨丝炉)
一、设备特点及主要用途
1、基本介绍:在真空或气氛保护情况下对物料进行无污染热处理的设备,本设备为周期作业式,按照用户要求定制。
VMF真空钨丝炉是一款专为高温材料处理设计的先进设备,采用高纯钨网加热元件,具备智能PID控温功能,实现精准温度控制。配备高效真空系统,确保在极限真空环境下稳定运行,适用于各种高温真空实验和材料制备。
设备还支持远程监控与操作,方便用户实时掌控工作状态,提升实验效率与安全性,是科研和工业应用的理想选择。
2、用途
1.材料科学研究:用于研究和开发新型高温材料,包括陶瓷、合金、和
复合材料等。
2.半导体制造:适合进行
半导体材料的热处理、烧结和退火工艺,确保精确的温控和洁净的真空环境。
3.高温热处理:广泛应用于各类金属和非金属材料的热处理过程,如钨、钼等高熔点材料的烧结和热处理。
4.高校与研究机构:为大学实验室和科研单位提供高温、真空环境下的材料制备和性能测试。
5.先进制造业:支持航空航天、电子元件及高科技制造行业的精密加工和材料热处理。
这些领域和应用充分利用了该设备的高温稳定性、真空性能和智能化控制优势,满足了高标准实验和生产需求。
二、结构组成
炉体、炉盖、炉底、真空系统、控制系统、冷却系统、发热体及隔热屏等。
三、结构说明
1、炉体:为立式炉壳,其内、外层均为304不锈钢做成的圆筒,外层镜面抛光处理。内外筒与前后法兰焊成一个整体,炉体开有电极孔、抽气孔、放气孔、热电偶孔、红外孔及观察孔等,各接口的材质均为不锈钢。
2、炉盖:由内外封头和法兰焊成,中间可通水冷却,炉盖开启装置。
3、炉底:由内外封头和法兰组成,中间通水冷却,下部设有充放气孔,固定在炉体下部,设有电极引出装置。
6、发热体及隔热屏:发热元件采用高纯钨制作成网状,有效增加辐射面积,保证温区的均匀性。隔热屏采用4层钨板,6层钼板,最外层采用不锈钢板支撑。
7、真空系统:
(1)主要由直联泵、分子泵,气动挡板阀、电磁截止阀、数显复合真空计、真空管路、放气阀、支架等组成;真空管道与泵之间采用金属波纹软管快速接头联接(减缓震动)。
(2)真空主抽泵直联泵(北仪优成)、分子泵(北科仪)。
(3)气动挡板阀(川北科技)GDQ-150 1台 GDQ-J40 2台
(4)成都正华数显真空计1台。
(5)真空管路1套,由波纹管、三通管、
真空泵、两个40的真空挡板阀、接口弯管等组成(波纹管内Φ40,三通管为40标准尺寸)。
8、控制系统:
采用英国欧陆仪表具有多项功能(3204)
A、5X16段程序控温,可以分成16组程序,如果分成5组程序,每条程序为20段,可以储存多组程序、使用时可以任意调出;
B、欧陆3204具有PID控制,温度能控制得很准确;
C、具有过温保护、过流保护和断偶时电炉加热电路自动切断等功能, ,(当电炉温度超过2120度或热电偶 烧断时,主电路上的交流继电器会自动断开,主电路断开,面板上ON灯熄灭,OFF灯亮,有效的保护电炉)
D、仪表有华氏度(F)和摄氏度(C)可供选择;
E、带有485 通讯接口,具有自动停机功能。
F、仪表精度为0.2级、液晶显示屏、自定义画面。
10、水冷系统:炉体、上下端盖采用夹层水冷的结构形式,在进出水主管路上安装水压继电器及压力表,同时与控制柜连接,异常状态时报警。能够定性的观察各分水路的水流大小。整个水冷系统确保各分路回水温度不高于40℃(进水温度20℃)。水冷系统主进直径50mm、回水管直径50mm(进水压力0.4MPa)。
四、设备安装要求
1、电力:380V,三相五线制,20KW,50Hz
2、冷却水:
耗量: 5m3/h
水压:1~0.4Mpa
进水水温: ≤40℃
接口尺寸: 2寸内丝连接
3、占地面积:1200mm(长)×700mm(宽)×1600mm(高)
五、核心优势
1.高效真空环境:真空系统保证洁净的高温处理环境
2.智能控制与远程监控:支持程序化操作与自动化控制
3.高校与科研机构:南京大学、清华大学等高校已应用于材料实验。
详细参数