货号 | CAS号 | 编号 | 包装 | 参数 |
101041 | 7440-33-7 | XF172 | 1 盒 | 基底尺寸: 9 mmx9 mm |
产品名称
中文名称:CVD氧化硅/硅基底单层二硒化钨
英文名称:Single Layer WSe2 on SiO2/Si
性质
形态:薄膜
参数
基底尺寸:9 mmx9 mm
WSe2片径范围:20-50μm
氧化层:300nm
厚度:0.6-0.8 nm
应用
先丰纳米**推出CVD法制备的单层二硒化钨,该产品具有缺陷少,层数可控,优异的光学性质,是研究层数和荧光效应和制备器件的优异材料,欢迎咨询。