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间接水冷靶座电弧蒸发源

745   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 09:05:34
本实用新型涉及多弧离子镀膜机，具体是一种多弧离子镀膜机的间接水冷靶座电弧蒸发源。包括引弧机构、靶块、不锈钢靶座、电弧屏蔽盘、电弧调节套、绝缘套、水管、电磁装置，所述靶块与所述不锈钢靶座之间设置有紫铜板，所述紫铜板正面与所述靶块紧密接触，紫铜板外边缘与不锈钢靶座焊接为一体。本实用新型取消了靶块与靶座之间的密封圈，利用紫铜传热效率高的特点，将紫铜板与不锈钢靶座体焊接成一体形成靶块的间接水冷结构，从根本上解决了由于密封圈老化失效或密封不严造成漏水和漏气，严重影响镀膜室内真空度和镀膜环境，造成镀膜质量下降和检查多个蒸发源是否漏气漏水既繁琐又不方便的技术难题，从而提高了蒸发源工作的稳定性和镀膜质量。
声明：
“间接水冷靶座电弧蒸发源” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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