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光刻设备、定位系统以及定位方法

1121   编辑:管理员   来源:中冶有色技术网  
2023-03-19 09:01:43
本发明提供一种光刻设备、定位系统和定位方法。具体地,一种用于光刻设备的定位系统,包括:控制系统,用于沿至少一个基本上平行于框架的方向定位所述光刻设备的可移动物体,所述控制系统包括:测量系统,用于测量所述可移动物体的位置;致动器,用于施加力到所述可移动物体;和控制器,用于基于所述测量系统的输出提供驱动信号给所述致动器;和紧急制动系统,其配置成确定所述控制系统的失效,并且如果确定所述失效,禁用所述控制系统并且对抗所述框架拉动所述可移动物体。
声明:
“光刻设备、定位系统以及定位方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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