本实用新型提供一种样品研磨辅助装置,包括:衬底、依次叠加形成于所述衬底上表面的若干层薄膜;及用于容置研磨样品的通槽,所述通槽贯穿所述衬底及所有所述薄膜。该辅助装置适用于28?nm及以下先进制程的产品失效分析,将要研磨的样品粘贴在通槽中,使得样品表面与辅助装置表面在同一水平面上,在研磨过程中,通过光学显微镜观察辅助装置上的图案就可以准确地判断研磨到了哪一层,大大节约了反复去电子显微镜确认的时间,也避免了电子显微镜反复照射对样品造成的伤害。同时,由于样品放置在辅助装置的中央,通过观察辅助装置前后左右四个方向所在的层就可以判断研磨的平整性,从而及时调整研磨的力度,保证样品大范围的平整性。
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