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用于叉指状栅GOI结构漏电点精确定位的方法

858   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 09:00:39
本发明提供一种叉指状栅GOI结构失效点定位方法，包括：提供集成电路芯片样品；逐层剥离集成电路各层直至暴露出源极/漏极接触顶部；刻蚀去除源极/漏极接触中的导电材料；采用电压衬度分析法，利用聚焦离子束(FIB)切割的方法，逐步定位栅极氧化层的失效点。通过去除源极/漏极接触中的导电金属，有效规避了FIB切割时源极/漏极接触(S/D CT)对电压衬度的干扰，进而实现栅极氧化层的漏电点(失效点)的精确定位，提高栅极氧化层可靠性失效分析的成功率。
声明：
“用于叉指状栅GOI结构漏电点精确定位的方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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