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硅通孔的测试结构

1030   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 09:00:13
本发明涉及一种硅通孔的测试结构，包括：半导体衬底；硅通孔，部分嵌于所述半导体衬底内；导电材料层，位于所述半导体衬底上方、所述硅通孔的外侧并与所述硅通孔相连接；其中，所述硅通孔以及所述导电材料层构成电容测试结构。本发明提供了一种晶圆可接受测试（WAT）的测试结构，用硅通孔，硅通孔隔离层以及多晶硅来形成电容结构，通过测试该电容结构的电容值和电容的漏电，来（1）推算TSV隔离层的电性厚度，（2）测试TSV的漏电流大小。所述测试结构不仅有助于侦测TSV隔离层的隔绝能力，而且可以帮助出现问题时的PFA（物理失效分析）定位。
声明：
“硅通孔的测试结构” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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