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暗场缺陷检测设备自对准工艺窗口的校正方法

977   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 09:00:01
一种暗场缺陷检测设备自对准工艺窗口的校正方法，包括：步骤S1：提供测试晶圆，具有不同功能膜层厚度和面积的测试区域；步骤S2：测试不同测试区域，并收集不同反射光信号强度；步骤S3：对反射光信号强度Y进行拟合，得到拟合公式Y＝αxn+βyn+γ；步骤S4：根据拟合公式，结合实际工艺生产中功能膜层之厚度和面积，推算所需的自对准光强值，进而对暗场缺陷扫描设备实现参数调整。本发明通过对不同功能膜层厚度和面积的测试区域进行多观测点测试，得到拟合公式，即可推算所需的自对准光强值，不仅有效避免因功能膜层过暗或过亮导致的自对准失效，而且可实时调整暗场缺陷检测设备之参数，保证暗场缺陷检测设备之光强值满足自对准校正的有效范围。
声明：
“暗场缺陷检测设备自对准工艺窗口的校正方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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