本发明公开了一种对微纳光学元件的结构深度进行无损检测的装置及方法,包括测试箱体和用于封盖该测试箱体的箱盖,在所述测试箱体内设置光源、单色器、分光器、被测微纳光学元件、积分球、反射镜和光电倍增管,在测试箱体外设置的计算机与光电倍增管的输出端连接。本发明的方法根据Fraunhofer衍射强度分布公式和衍射光栅公式,得到0级衍射峰值强度I0peak与微纳光学元件透过率T的关系透过率T和结构深度h的关系T=80‑0.07h,将测得的透过率值带入式中,计算得到微纳光学元件的结构深度h。该通过透过率计算出结构特征尺寸,具有测试效率高及不损伤样品的特点。
声明:
“对微纳光学元件的结构深度进行无损检测的装置及方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)