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SONOS器件中ONO结构的制造方法

942   编辑:管理员   来源:中冶有色技术网  
2023-03-19 08:57:00
本发明公开了一种SONOS器件中ONO结构的制造方法,首先采用低压氧化工艺在硅衬底上形成预设厚度的隧穿氧化层;接着对隧穿氧化层进行掺氮,且掺氮浓度随着隧穿氧化层的深度逐渐递减;然后在隧穿氧化层的上方形成用于存储电荷的氮化硅层;最后采用化学气相沉积工艺形成阻挡氧化层。本发明在隧穿氧化层中,由于掺氮浓度随着氧化层深度逐渐递减,因此使得整体隧穿氧化层能级也呈平缓递减,当器件处在写入状态时,由于能带在外电场下发生偏转,从而电子发生隧穿时通过的势垒区仍与普通SONOS器件相同,从而保证了擦写速度的要求。同时,在可靠性测试时,需要高温进行烘烤,由于梯度隧穿层的作用,电子逃逸更难以实现,从而保证了SONOS器件的数据保存能力。
声明:
“SONOS器件中ONO结构的制造方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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