本发明属于电磁屏蔽实现技术领域,具体涉及一种内嵌式金属网栅的电磁屏蔽光学窗制备方法。该方法包含:(1)通过物理和化学方法清洗光学窗表面;(2)采用电子束蒸发方法生长制备Y
2O
3薄膜;(3)热处理镀膜后的光学窗口,使薄膜表面产生随机分布的网状裂纹;(4)在开裂的薄膜表面沉积金属薄膜;(5)采用等离子体大角度倾斜刻蚀方法,通过控制倾斜刻蚀时间,有效去除基底表面金属层,仅保留裂纹内部嵌入的金属材料。该方法不但适应平面光学窗,而且可以在曲面光学窗表面实现可见、或红外电磁屏蔽效果,在遥感遥测、航天航空、移动通信等军事和民用领域具有广泛应用前景。
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