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Tb、Mn 和Ni 三元共掺杂的低漏电流BiFeO3 薄膜及其制备方法

991   编辑:管理员   来源:中冶有色技术网  
2023-03-19 08:56:36
一种Tb、Mn和Ni三元共掺杂的低漏电流BiFeO3薄膜及其制备方法,将硝酸铋、硝酸铁、硝酸铽、醋酸锰和乙酸镍按(0.91-0.97):(0.96-x):(0.08-0.14):0.04:x的摩尔比溶于由乙二醇甲醚和醋酸酐混合而成的混合液中,然后搅拌均匀得到BiFeO3前驱液;其中,x=0.01~0.02;将BiFeO3前驱液旋涂在FTO/glass基片上制备湿膜,将湿膜烘烤得干膜,然后在550℃退火8~13min,得到晶态BiFeO3薄膜,待晶态BiFeO3薄膜冷却后,再重复使晶态BiFeO3薄膜达到所需厚度,即得到Tb、Mn和Ni三元共掺杂的低漏电流BiFeO3薄膜。本发明设备要求简单,适宜在大的表面和形状不规则的表面上制备薄膜,且化学组分精确可控,并且能够提高薄膜的电性能,BiFeO3在350kV/cm的测试电场下漏电流密度仍保持在10-5A/cm2以下,在100kHz的测试频率下介电常数为240~270。
声明:
“Tb、Mn 和Ni 三元共掺杂的低漏电流BiFeO3 薄膜及其制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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