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Tb、Mn 和Ni 三元共掺杂的低漏电流BiFeO3 薄膜及其制备方法

978   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 08:56:36
一种Tb、Mn和Ni三元共掺杂的低漏电流BiFeO3薄膜及其制备方法，将硝酸铋、硝酸铁、硝酸铽、醋酸锰和乙酸镍按（0.91-0.97）:（0.96-x）:（0.08-0.14）:0.04:x的摩尔比溶于由乙二醇甲醚和醋酸酐混合而成的混合液中，然后搅拌均匀得到BiFeO3前驱液；其中，x=0.01～0.02；将BiFeO3前驱液旋涂在FTO/glass基片上制备湿膜，将湿膜烘烤得干膜，然后在550℃退火8～13min，得到晶态BiFeO3薄膜，待晶态BiFeO3薄膜冷却后，再重复使晶态BiFeO3薄膜达到所需厚度，即得到Tb、Mn和Ni三元共掺杂的低漏电流BiFeO3薄膜。本发明设备要求简单，适宜在大的表面和形状不规则的表面上制备薄膜，且化学组分精确可控，并且能够提高薄膜的电性能，BiFeO3在350kV/cm的测试电场下漏电流密度仍保持在10-5A/cm2以下，在100kHz的测试频率下介电常数为240～270。
声明：
“Tb、Mn 和Ni 三元共掺杂的低漏电流BiFeO3 薄膜及其制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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