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非线性光学增强氮化硅薄膜制备方法

692   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 08:20:20
本发明公开了一种非线性光学增强氮化硅薄膜制备方法，该发明属于薄膜非线性光学技术领域。该发明采用原子层薄膜沉积技术制备氮化硅薄膜，通过调控前驱物组份的化学计量比，实现氮化硅薄膜非线性光学增强的效果。具体是指将洁净的衬底放置在镀膜夹具后，利用原子层沉积方法获得氮化硅薄膜，采用流量控制方式，实现硅氮元素化学计量比控制在1：10‑10：1范围内，膜层厚度范围20‑300nm。通过Z扫描的方法测试氮化硅薄膜的非线性光学特性。根据本发明的方法制备的氮化硅薄膜性能优异，能够应用于吸收型光开关或吸收型光双稳器件等领域。另外，本发明关于一种氮化硅薄膜非线性光学增强的制备方法操作简单，制备周期短，成本低，效果显著。
声明：
“非线性光学增强氮化硅薄膜制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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