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MOCVD设备及其进气装置

792   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 08:20:18
本实用新型涉及一种MOCVD设备及其中的进气装置，通过在进气装置的下表面预先进行表面处理，形成耐高温及耐化学腐蚀的表面处理层，例如是与实际生产后的附着层的性质相类似的吸光涂层，或者热处理层，或化学处理层，或结构处理层等，这些表面处理层的形成能够提高光学测量环境和反应腔内温场环境的稳定性，使得MOCVD设备在连续运行情况下，光学测量结果仍能保持较高的准确度和一致性，进而能够实现MOCVD设备稳定的运行，保证炉次间的设备工艺稳定性，从而降低腔体环境改变对生产带来的影响，提高生产的良品率，降低生产成本。
声明：
“MOCVD设备及其进气装置” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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