本发明公开了一种自支撑悬浮石墨化碳膜制备方法。主要利用化学气相沉积方法,在硅晶圆衬底上,通过含碳有机物气体在高温氢气环境中裂解,自组装包裹沉积一层碳膜,再对衬底进行刻蚀,凭借强化学稳定的碳‑硅化学健的形成,得到具有较高机械强度的悬浮自支撑碳膜。技术方案的要点有:利用优化的化学气相沉积条件,通过多种图形化开窗口技术,选择合适的湿法刻蚀参数进行刻蚀,从而得到不同厚度、不同窗口尺寸的硅基自支撑碳膜。本方法制备的自支撑碳膜具有其制作方法简单,成本低廉,机械强度高,厚度大小易于控制等显著特点。使用此制备方案得到的自支撑悬浮碳膜可以替代传统铍(Be)箔窗口,用于X射线窗口薄膜,更好地探测更低能量的X射线特征谱线;可以用于透射电子显微镜载物样品支撑;还可用于真空计、微机电与纳机电系统等领域。
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