本发明公开一种利用介质薄膜控制Otto结构中空气隙厚度的方法,当光强反射率R取得最小值时,此时对应的空气隙厚度d1即为需要镀制的介质薄膜的厚度;采用物理沉积法或化学沉积法在棱镜底面镀制介质薄膜;介质薄膜镀制完成后,采用精密测量仪器测量得出的所镀介质膜层的厚度,即为实际控制的纳米尺度空气隙的厚度。本发明解决了用来产生表面等离子体共振效应的Otto结构中纳米尺度空气间隙厚度难于精确控制的问题。
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