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光催化原位表征系统

849   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 07:57:10
一种光催化原位表征系统，用于光催化剂表面反应过程及有机物环境光化学过程研究，包括超高真空腔体、原位质谱模块、原位反射红外光谱模块、能谱模块、样品表面刻蚀及清洗部件、样品操纵台、在线更换样品部件、真空泵组、原位光照组件和气体进样部件。利用本发明，可以对固相样品表面进行原位刻蚀及清洗，并可以系统研究(光)催化反应过程中固相催化剂表面及气固、液固界面上的反应细节，如反应物吸附模式、分子特征基团变化、表面元素种类定性测试、催化反应或程序升温过程中间产物原位定性定量检测等。
声明：
“光催化原位表征系统” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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