本发明公开了一种银-锗-硅异质分级结构阵列及其制备方法和用途。阵列为六方排列的硅微米六棱柱阵列,组成六方排列的硅微米六棱柱阵列的硅微米六棱柱上置有其表面修饰有银纳米颗粒的锗纳米锥;方法为先将硝酸镍溶液和氧化
石墨烯溶液混合得混合液,再将使用光刻和深硅刻蚀技术获得的六方排列的硅微米六棱柱阵列置于混合液中浸泡,得到其表面修饰有硝酸镍的六方排列的硅微米六棱柱阵列,之后,先对其表面修饰有硝酸镍的六方排列的硅微米六棱柱阵列使用化学气相沉积法于其上沉积锗纳米锥,再将其上置有锗纳米锥的六方排列的硅微米六棱柱阵列置于硝酸银溶液中浸泡,制得目的产物。它可作为SERS的活性基底,广泛用于环境、化学、生物等领域的快速检测。
声明:
“银-锗-硅异质分级结构阵列及其制备方法和用途” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)