本发明公开了一种半导体清洗液管理装置,包括:储液单元,用于储存清洗液;浓度液位检测单元,用于检测所述储液单元中清洗液的浓度及液位,并将检测到的浓度数据及液位数据传输给所述控制单元;控制单元,用于根据所述浓度数据及液位数据生成相应的控制信号,并将所述控制信号发送给所述执行单元;执行单元,用于根据所述控制信号执行所述储液单元的清洗液的排放、补充所述储液单元的化学药剂、补充所述储液单元的水、更换所述储液单元的清洗液、回收反应腔体的清洗液、以及供液给反应腔体的动作。本发明通过与反应腔体控制装置的结合,实现了对清洗液进行自动管理,并实现了在没有技术人员对清洗液进行管理的情况下,持续的进行清洗工艺。
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