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高硅抛光片表面贵金属离子回收率测试方法

672   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 07:28:47
本发明涉及一种高硅抛光片表面贵金属离子回收率测试方法，通过采用新型萃取液对高硅抛光片表面贵金属离子萃取回收，提取贵金属，萃取液由低浓度的硝酸和盐酸配制而成，通过化学反应实现萃取液对贵金属元素的回收；采用新型萃取液，能够解决原有萃取液对于硅抛光片表面贵金属回收率低的问题，使铂Pt、银Ag、钯Pd和金Au的回收率达到了70%以上，提高硅抛光片表面贵金属测试的稳定性，从而满足对于硅抛光片表面贵金属离子的测试要求。
声明：
“高硅抛光片表面贵金属离子回收率测试方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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