本实用新型涉及一种工艺终点检测装置,与化学机械抛光机台配合使用,其包括:一光发射模块以及一光检测模块,其特征在于,化学机械抛光机台的抛光平台设有一上下贯通的窗口,待检晶圆置于抛光平台上并遮蔽窗口,终点检测装置位于抛光平台下方并与其分离设置,光发射模块发出光束自窗口投射至待检晶圆表面,光检测模块经由窗口接收待检晶圆表面薄膜表面的反射光束,并计算表面薄膜厚度以确定化学机械抛光工艺的终点。其便于拆卸、更换或维护。
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