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便于调节化学机械抛光装置

782   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 07:01:16
本实用新型公开一种便于调节化学机械抛光装置，包括底盘，所述底盘底端的外侧壁上开设有环型槽，所述环型槽的内部滑动连接有固定环，本实用新型所达到的有益效果是：本实用新型通过设置复位机构、卡位机构、防护结构和增压机构，针对不同晶圆表面进行抛光需要调节底盘与抛光头之间的压力时，能够调节气囊的膨胀程度，调节压覆在底盘上的抛光头与底盘之间的压力，能够调节底盘的上表面与晶圆之间的而压力，避免在对不同晶圆进行抛光时影响对晶圆的表面的抛光效果，通过设置卡位机构、复位机构和防护机构，在需要对底盘进行检修或者更换时，进行拆卸的操作简单，更换结束后，进行安装的操作简单，便于对底盘进行检修和更换，使用方便。
声明：
“便于调节化学机械抛光装置” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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