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用来制造具有整体窗口的化学机械平面化（CMP）抛光垫的方法

792   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 07:00:46
本发明提供了制造化学机械平面化(CMP)抛光层或抛光垫的方法，其包含：提供敞口模具，其具有带有会产生平的或成形的CMP抛光层表面的凹形貌的表面并且具有保持在其上适当位置的一或多个终点检测窗口片；将液体异氰酸酯组分与液体多元醇组分混合，形成无溶剂反应混合物；将所述反应混合物喷射到所述敞口模具上，同时将所述一或多个窗口片保持在适当位置，每个窗口片位于预先确定的位置，接着固化所述反应混合物。
声明：
“用来制造具有整体窗口的化学机械平面化（CMP）抛光垫的方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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化学分析
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