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多晶硅环的化学机械抛光方法

1090   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 06:59:01
本发明涉及一种多晶硅环的化学机械抛光方法，依次包括将硅环和无纺布抛光垫安装在抛光机上、粗抛、精抛步骤；粗抛中的粗抛液的成分为氧化铝（0.23‑0.26μm）10%‑40%，金刚石（0.32‑0.34μm）0.2%‑5%，水60%‑90%；精抛中的精抛液成分为胶体SiO2（90‑120nm）0.8%‑1%，SiO2（40‑45nm）0.3%‑0.5%，哌嗪0.08%‑0.12%，氢氧化四甲基铵0.01%‑0.05%,纯水＞98%；在粗抛过程中将含有纳米金刚石的抛抛液分散在无纺布抛光垫上，粗抛液中氧化铝微粉能够降低硅环表面粗糙度，减小亚表面损伤层深度，提高抛光效率，在精抛过程中，精抛液能够实现化学作用与机械作用的良好匹配，保证抛光硅晶片高去除速率的同时，避免抛光雾等缺陷的形成，提高抛光后表面质量，抛光方法后硅环平面度＜20μm，破损层DOD=0um，经检测抛光合格。
声明：
“多晶硅环的化学机械抛光方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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