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化学机械抛光方法及装置

1020   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 06:59:01
本发明提供了一种化学机械抛光方法及装置，属于半导体技术领域。化学机械抛光方法包括：利用至少两个抛光冷却阶段对硅片进行化学机械抛光，每一所述抛光冷却阶段依次包括抛光阶段和冷却阶段；其中，在所述抛光阶段使用抛光液对所述硅片进行抛光；在所述冷却阶段检测抛光盘的温度，根据所述抛光盘的温度调整冷却液的添加剂量，将所述冷却液直接通入到所述抛光盘的表面对所述抛光盘进行冷却。本发明能够提高硅片的表面平坦度。
声明：
“化学机械抛光方法及装置” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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