本发明涉及一种化学气相沉积机台,包括标准机械界面、前端部分、机械手臂、缓存处、缓冲区和沉积腔体,其中所述标准机械界面是晶片进入机台的开始位置,所述前端部分一端连接标准机械界面另一端连接缓存处,所述前端部分设有风机
过滤机组,所述风机过滤机组包括风扇,所述风扇过滤前端部分的空气,所述缓冲区连接所述缓存处,所述沉积腔体与缓冲区相连接,所述机械手臂用于传输标准机械界面、缓存处和沉积腔体之间的晶片,所述风机过滤机组还包括一个用于检测风扇工作状态的检测装置。本发明在前端部分中的风机过滤机组上增加一个用于检测风扇工作状态的检测装置,避免因风扇不工作后造成的晶片污染,降低低效产品。
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