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基底的热引导的化学蚀刻及其实时监测

659   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 06:50:33
控制基底蚀刻过程的方法(300)包括将基底的底表面或顶表面设置(301、302)成邻近一定体积的蚀刻流体，以产生蚀刻剂‑基底界面，以及经由空间受控的电磁辐射来加热(305)蚀刻剂‑基底界面。方法还包括将监测光束传输(303)穿过基底，基底和一定体积的蚀刻流体在监测光束的波长范围处是至少部分地透明的，以及在基底蚀刻过程期间，经由监测光束测量(304)基底表面的性质，以产生对于基底的实时测量性质。本文还公开了相应的蚀刻系统(100A‑100D)和计算机程序产品。
声明：
“基底的热引导的化学蚀刻及其实时监测” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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