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化学气相沉积清洗终点监测方法及其系统

1021   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 06:46:27
本发明公开了一种化学气相沉积清洗终点监测方法，包括：将三氟化氮气体通入CVD腔室进行清洗；将三氟化氮气体在对CVD腔室清洗过程中产生的光束进行频谱分析；检测所述光束中是否存在四氟化硅光谱；若是，则继续监测所述光束的频谱；若否，则发出清洗终点指令，停止对CVD腔室的清洗。本发明还提供了一种化学气相沉积清洗终点监测系统，包括：清洗装置，用于将三氟化氮气体通入CVD腔室进行清洗；光谱分析装置，用于将三氟化氮气体在对CVD腔室清洗过程中产生的光束进行频谱分析；监测控制装置，用于检测所述光束中是否存在四氟化硅光谱。本发明提供的技术方案具有节省清洗时间，减少资源浪费和提高沉积效率的优点。
声明：
“化学气相沉积清洗终点监测方法及其系统” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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