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化学气相沉积清洗终点监测方法及其系统

958   编辑:管理员   来源:中冶有色技术网  
2023-03-19 06:46:27
本发明公开了一种化学气相沉积清洗终点监测方法,包括:将三氟化氮气体通入CVD腔室进行清洗;将三氟化氮气体在对CVD腔室清洗过程中产生的光束进行频谱分析;检测所述光束中是否存在四氟化硅光谱;若是,则继续监测所述光束的频谱;若否,则发出清洗终点指令,停止对CVD腔室的清洗。本发明还提供了一种化学气相沉积清洗终点监测系统,包括:清洗装置,用于将三氟化氮气体通入CVD腔室进行清洗;光谱分析装置,用于将三氟化氮气体在对CVD腔室清洗过程中产生的光束进行频谱分析;监测控制装置,用于检测所述光束中是否存在四氟化硅光谱。本发明提供的技术方案具有节省清洗时间,减少资源浪费和提高沉积效率的优点。
声明:
“化学气相沉积清洗终点监测方法及其系统” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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