本发明提供一种新型的与
电化学发光同时测量的超分辨电化学成像测量装置,示意图如图1所示。由计算机1、双恒电位仪2、压电晶体控制器3、三维压电晶体4、光电倍增管检测系统5、光电倍增管检测器6、检测池7、探针8、参比电极9、对电极10和被测基底样品11组成。其中探针8、参比电极9、对电极10和被测基底样品11组成四电极检测系统。双恒电位仪2用于在探针8和被测基底样品11之间施加电化学激励信号,光电倍增管检测器6检测电化学发光信号的同时双恒电位仪2检测探针8上的电流信号,结合三维压电晶体4纳米级别的位移分辨率来实现超高分辨率的电化学发光信号成像检测和电化学电流信号成像检测。该成像系统的成像分辨率取决于探针电极的尺度及探针的空间位移分辨率,因此可以突破以往光学成像分辨率的限制,实现纳米级别的成像分辨率。
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“与电化学发光同时测量的超分辨电化学成像测量装置” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
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