本发明公开了一种高透电磁屏蔽镀膜玻璃及其生产制备方法,高透电磁屏蔽镀膜玻璃包括玻璃基体,所述玻璃基体的上表面设置光学镀层A,所述玻璃基体的下表面设置屏蔽层,所述屏蔽层下部设置光学镀层B,所述光学镀层A包括二氧化硅层A、五氧化二铌层,所述二氧化硅层A设置于五氧化二铌层上部;高透电磁屏蔽镀膜玻璃的生产制备方法,包括如下步骤:基片清洗、基片运输、抽真空、基片加热、溅镀、缓冲退火、卸片、包装;有效解决电子系统与电子设备间的电磁干扰,防止电磁信息泄漏,防护电磁辐射污染;有效保障仪器设备正常工作,保障机密信息的安全,保障工作人员身体健康;并且整体透光性能好,提高可见光波段透射率,提升整体显示效果。
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