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转印倒置模板法制备有序锗纳米点阵

875   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 06:32:53
本发明涉及半导体低维结构薄膜的制备方法，特别是利用倒置多孔氧化铝模板，转印有序点阵技术，利用溅射技术制备有序高密度锗纳米点阵的制备方法。本发明采用经典两步阳极氧化法制备多孔氧化铝不通孔模板，然后利用溅射技术，在保持高真空环境的工作室中，以高纯氩气为工作气体，工作室溅射压强0.5Pa～2Pa，生长温度600～800℃，溅射功率50W～100W条件下，在被移植到硅基底材料上生长厚度＜50nm硅缓冲层完成有序结构的转印，然后呈有序结构分布的硅缓冲层上生长锗纳米点阵。本发明具有生产成本低、可控性好、所制备锗纳米点阵具有密度高，有序性好等特点。
声明：
“转印倒置模板法制备有序锗纳米点阵” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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