权利要求书: 1.一种用于高纯锗γ能谱仪探头的覆膜机构,包括外筒(1)和内筒(2),所述内筒(2)滑动连接在外筒(1)的内部,其特征在于:所述外筒(1)的圆弧面设有覆膜结构(3),所述覆膜结构(3)包括两个滑孔(301),两个所述滑孔(301)分别开设在外筒(1)的两侧,所述滑孔(301)的内壁滑动连接有滑块(302),两个所述滑块(302)彼此靠近的一侧均与内筒(2)固定连接,所述外筒(1)的圆弧面滑动套有环形刀(304),所述环形刀(304)的上表面固定连接有若干个固定杆(305),所述固定杆(305)的圆弧面固定连接有卡块,所述卡块固定连接在外筒(1)的圆弧面上,所述固定杆(305)的圆弧面套有第二弹簧(306),所述第二弹簧(306)的两端分别与固定杆(305)和卡块固定连接,所述外筒(1)的圆弧面固定连接有固定架(307),所述固定架(307)的一端固定连接有支撑杆(308),所述支撑杆(308)的圆弧面套有卷状薄膜(309)。2.根据权利要求1所述的用于高纯锗γ能谱仪探头的覆膜机构,其特征在于:所述内筒(2)的下端固定连接有压垫(310),所述压垫(310)的下表面均匀设有防滑纹。3.根据权利要求1所述的用于高纯锗γ能谱仪探头的覆膜机构,其特征在于:所述外筒(1)的圆弧面固定连接有拉手(311),所述拉手(311)的截面呈“U”形。4.根据权利要求1所述的用于高纯锗γ能谱仪探头的覆膜机构,其特征在于:所述外筒(1)对应滑孔(301)的位置固定连接有防护盖(312),所述滑块(302)的上表面固定连接有第一弹簧(303),所述第一弹簧(303)的上端与防护盖(312)固定连接。5.根据权利要求4所述的用于高纯锗γ能谱仪探头的覆膜机构,其特征在于:所述滑块(302)的上表面固定连接有限位杆(313),所述限位杆(313)的圆弧面与第一弹簧(303)滑动连接,所述限位杆(313)的上端滑动贯穿防护盖(312)。6.根据权利要求5所述的用于高纯锗γ能谱仪探头的覆膜机构,其特征在于:所述支撑杆(308)远离固定架(307)的一端向上弯折。7.根据权利要求1?6任一项所述的用于高纯锗γ能谱仪探头的覆膜机构,其特征在于:在靠近外筒(1)下端的外筒(1)外壁设置有环形凹槽,在环形凹槽中套设有若干个橡胶圈(314)。
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我是此专利(论文)的发明人(作者)