权利要求书: 1.一种用于高纯锗γ能谱仪探头的覆膜机构,包括外筒(1)和内筒(2),所述内筒(2)滑动连接在外筒(1)的内部,其特征在于:所述外筒(1)的圆弧面设有覆膜结构(3),所述覆膜结构(3)包括两个滑孔(301),两个所述滑孔(301)分别开设在外筒(1)的两侧,所述滑孔(301)的内壁滑动连接有滑块(302),两个所述滑块(302)彼此靠近的一侧均与内筒(2)固定连接,所述外筒(1)的圆弧面滑动套有环形刀(304),所述环形刀(304)的上表面固定连接有若干个固定杆(305),所述固定杆(305)的圆弧面固定连接有卡块,所述卡块固定连接在外筒(1)的圆弧面上,所述固定杆(305)的圆弧面套有第二弹簧(306),所述第二弹簧(306)的两端分别与固定杆(305)和卡块固定连接,所述外筒(1)的圆弧面固定连接有固定架(307),所述固定架(307)的一端固定连接有支撑杆(308),所述支撑杆(308)的圆弧面套有卷状薄膜(309)。
2.根据权利要求1所述的用于高纯锗γ能谱仪探头的覆膜机构,其特征在于:所述内筒(2)的下端固定连接有压垫(310),所述压垫(310)的下表面均匀设有防滑纹。
3.根据权利要求1所述的用于高纯锗γ能谱仪探头的覆膜机构,其特征在于:所述外筒(1)的圆弧面固定连接有拉手(311),所述拉手(311)的截面呈“U”形。
4.根据权利要求1所述的用于高纯锗γ能谱仪探头的覆膜机构,其特征在于:所述外筒(1)对应滑孔(301)的位置固定连接有防护盖(312),所述滑块(302)的上表面固定连接有第一弹簧(303),所述第一弹簧(303)的上端与防护盖(312)固定连接。
5.根据权利要求4所述的用于高纯锗γ能谱仪探头的覆膜机构,其特征在于:所述滑块(302)的上表面固定连接有限位杆(313),所述限位杆(313)的圆弧面与第一弹簧(303)滑动连接,所述限位杆(313)的上端滑动贯穿防护盖(312)。
6.根据权利要求5所述的用于高纯锗γ能谱仪探头的覆膜机构,其特征在于:所述支撑杆(308)远离固定架(307)的一端向上弯折。
7.根据权利要求1?6任一项所述的用于高纯锗γ能谱仪探头的覆膜机构,其特征在于:
在靠近外筒(1)下端的外筒(1)外壁设置有环形凹槽,在环形凹槽中套设有若干个橡胶圈(314)。
说明书: 一种用于高纯锗γ能谱仪探头的覆膜机构技术领域[0001] 本实用新型涉及高纯锗γ能谱仪探头覆膜技术领域,尤其涉及一种用于高纯锗γ能谱仪探头的覆膜机构。背景技术[0002] 高纯锗γ能谱仪探头是指采用高纯锗探测技术在现场检测可疑样品放射性物质的一种探头。目前,在使用高纯锗γ能谱仪检测放射性物质时,探头通常是直接裸露在外,探头端面容易接触可疑物质,导致探头端面容易受到污染。[0003] 为防止探头端面受到污染,最好是采用不影响探测结果的薄膜或纸片盖在探头端面。然而,现有方式中只能预先裁剪好薄膜或纸片,不方便操作。实用新型内容
[0004] 为了便于在高纯锗γ能谱仪探头上覆膜,本实用新型提供了一种用于高纯锗γ能谱仪探头的覆膜机构。[0005] 为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案。[0006] 一种用于高纯锗γ能谱仪探头的覆膜机构,包括外筒和内筒,所述内筒滑动连接在外筒的内部,所述外筒的圆弧面设有覆膜结构,所述覆膜结构包括两个滑孔,两个所述滑孔分别开设在外筒的两侧,所述滑孔的内壁滑动连接有滑块,两个所述滑块彼此靠近的一侧均与内筒固定连接,所述外筒的圆弧面滑动套有环形刀,所述环形刀的上表面固定连接有若干个固定杆,所述固定杆的圆弧面固定连接有卡块,所述卡块固定连接在外筒的圆弧面上,所述固定杆的圆弧面套有第二弹簧,所述第二弹簧的两端分别与固定杆和卡块固定连接,所述外筒的圆弧面固定连接有固定架,所述固定架的一端固定连接有支撑杆,所述支撑杆的圆弧面套有卷状薄膜。[0007] 使用时,先拉出薄膜,将拉出的薄膜盖在外筒的下端,接着将外筒套在探头外部,然后下压内筒,将薄膜覆盖在探头上,然后采用环形刀分切薄膜。[0008] 进一步地,所述内筒的下端固定连接有压垫,所述压垫的下表面均匀设有防滑纹。[0009] 进一步地,所述外筒的圆弧面固定连接有拉手,所述拉手的截面呈“U”形,方便握持外筒,调整内筒位置。[0010] 进一步地,所述外筒对应滑孔的位置固定连接有防护盖,所述滑块的上表面固定连接有第一弹簧,所述第一弹簧的上端与防护盖固定连接,便于给滑块施加弹力,方便内筒下压后回弹。[0011] 进一步地,所述滑块的上表面固定连接有限位杆,所述限位杆的圆弧面与第一弹簧滑动连接,所述限位杆的上端滑动贯穿防护盖,便于对第一弹簧弹进行限位和导向。[0012] 优选的,所述支撑杆远离固定架的一端向上弯折。[0013] 进一步地,在靠近外筒下端的外筒外壁设置有环形凹槽,在环形凹槽中套设有若干个橡胶圈。[0014] 有益效果:当需要将薄膜覆盖在探头上时,先拉出薄膜,使薄膜遮盖在外筒下方,然后直接将外筒扣在探头上,此时被拉出的薄膜会盖在探头上,接着向下按压内筒,此时内筒会带动滑块沿着外筒的滑孔内壁滑动,第一弹簧则处于被拉伸状态,通过限位杆对第一弹簧进行限位和导向,内筒向下移动时会挤压薄膜,使薄膜覆盖并套在探头上,然后向下拉动/压动环形刀,使环形刀沿着外筒的圆弧面向下滑动,通过环形刀将薄膜分切(即将薄膜切断),然后松开内筒,此时第一弹簧会给滑块拉力,使内筒回到原来位置,从而实现了方便、快速的将薄膜覆盖在探头上。附图说明[0015] 图1为实施例1中覆膜机构立体结构示意图;[0016] 图2为图1左向的结构示意图;[0017] 图3为图1的部分结构截面图;[0018] 图4为实施例中环形刀的截面图;[0019] 图5为图3下部的结构示意图;[0020] 图6为实施例2中覆膜机构的局部示意图(示意橡胶圈)。[0021] 图例说明:1、外筒;2、内筒;3、覆膜结构;301、滑孔;302、滑块;303、第一弹簧;304、环形刀;305、固定杆;306、第二弹簧;307、固定架;308、支撑杆;309、薄膜;310、压垫;311、拉手;312、防护盖;313、限位杆;314、橡胶圈。具体实施方式实施例
[0022] 参照图1所示,一种用于高纯锗γ能谱仪探头的覆膜机构,包括外筒1和内筒2,内筒2滑动连接在外筒1的内部,外筒1的圆弧面设有覆膜结构3。[0023] 具体地,结合图2至图5所示,覆膜结构3包括两个滑孔301,两个滑孔301分别开设在外筒1的两侧,滑孔301的内壁滑动连接有滑块302,两个滑块302彼此靠近的一侧均与内筒2固定连接,外筒1的圆弧面滑动套有环形刀304,环形刀304的上表面固定连接有若干个固定杆305,固定杆305的圆弧面固定连接有卡块,卡块固定连接在外筒1的圆弧面上,固定杆305的圆弧面套有第二弹簧306,第二弹簧306的两端分别与固定杆305和卡块固定连接,外筒1的圆弧面固定连接有固定架307,固定架307的一端固定连接有支撑杆308,支撑杆308的圆弧面套有卷状薄膜309,便于拉出薄膜309,将薄膜309先盖在外筒1的下端,接着将外筒1套在探头外部,然后下压内筒2,借助于内筒2将薄膜309覆盖在探头上。内筒2的下端固定连接有压垫310,压垫310的下表面均匀设有防滑纹。外筒1的圆弧面固定连接有拉手311,拉手311的截面呈“U”形,方便握持外筒1,调整内筒2位置。外筒1对应滑孔301的位置固定连接有防护盖312,滑块302的上表面固定连接有第一弹簧303,第一弹簧303的上端与防护盖312固定连接,便于给滑块302施加弹力,方便内筒2下压后回弹。滑块302的上表面固定连接有限位杆313,限位杆313的圆弧面与第一弹簧303滑动连接,限位杆313的上端滑动贯穿防护盖312,以对第一弹簧303进行限位和导向。支撑杆308远离固定架307的一端向上弯折。
[0024] 使用时,先将成卷的薄膜309套在支撑杆308上,当需要将薄膜309覆盖在探头上时,先拉出薄膜309,使薄膜309遮盖在外筒1下方,然后直接将外筒1扣在探头上,此时被拉出的薄膜309会盖在探头上,接着向下按压内筒2,此时内筒2会带动滑块302沿着外筒1的滑孔301内壁滑动,第一弹簧303则处于被拉伸状态,通过限位杆313对第一弹簧303进行位和导向,内筒2向下移动时会挤压薄膜309,使薄膜309覆盖并套在探头上,然后向下拉动/压动环形刀304,使环形刀304沿着外筒1的圆弧面向下滑动,环形刀304会将薄膜309分切(即将薄膜309切断),然后松开内筒2,此时第一弹簧303会给滑块302拉力,使内筒2回到原来位置。随后,可以用橡皮筋将覆盖在探头上的薄膜309套紧,从而实现了将薄膜309稳定的覆盖在探头上。实施例
[0025] 一种用于高纯锗γ能谱仪探头的覆膜机构,主体结构参照实施例1,其与实施例1的主要区别在于:结合图6所示,在靠近外筒1下端的外筒1外壁设置有环形凹槽,在环形凹槽中套设有若干个橡胶圈314,使用时,向下按压内筒2到位后,然后向下移动/滑动一个橡胶圈314,通过橡胶圈314将薄膜309箍紧在探头上,然后向下拉动/压动环形刀304对薄膜309进行分切。本实施例中,通过将橡胶圈314设置在外筒1下部的环形凹槽中,便于在套上薄膜309后顺手就移动橡胶圈314将薄膜309箍紧,非常方便,实现了将薄膜309快速、稳定的覆盖在探头上。
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