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用于减少晶圆边缘良率测试问题的方法

928   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 09:00:33
本发明提供了一种用于减少晶圆边缘良率测试问题的方法，包括：第一步骤：获取对晶圆的钝化层执行光刻所将要采用的图案化光罩和图案化光阻；第二步骤：将所述图案化光罩变成反相的以得到反相的图案化光罩，而且在保持光阻图案不变的情况下使得所述图案化光阻的正负属性变化以得到相反的图案化光阻；第三步骤：利用所述反相的图案化光罩和所述相反的图案化光阻，对晶圆执行光刻。在本发明的用于减少晶圆边缘良率测试问题的方法中，将钝化层的光罩和光阻都变成反相的，这样既保持了晶圆中，除去边缘位置开始的预定部分，其他部分图形不变；而从边缘起到预定部分，钝化层保留下来，这样就不会产生测试假失效的问题。
声明：
“用于减少晶圆边缘良率测试问题的方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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失效分析
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